第三方檢測(cè)-北京
010-62182643(檢測(cè)業(yè)務(wù))
010-62182674(試樣加工)
儀器名稱:Plasma 3000 雙向觀測(cè)ICP
儀器型號(hào):Plasma 3000
制 造 商:鋼研納克
原 產(chǎn) 地:中國(guó)北京
聯(lián)系電話:400 6218 010
儀器類型 | 全譜型ICP | 觀測(cè)方式 | 雙向觀測(cè) | 矩管放置 | 垂直放置 |
震蕩頻率 | 27.12MHz | 頻率穩(wěn)定性 | 優(yōu)于0.01% | 功率穩(wěn)定性 | 優(yōu)于0.1% |
光源類型 | 固態(tài)光源 | 光柵類型 | 中階梯光柵 | 檢測(cè)器類型 | 背照式CCD |
儀器尺寸 | 106cm*67cm*75cm | 儀器重量 | 180kg |
鋼研納克ICP光譜儀,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位。央企品牌,上市公司,品質(zhì)之選!歡迎來(lái)電洽談。聯(lián)系電話:400-6218-010。
儀器介紹
Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測(cè),冷錐消除尾焰,具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。
固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000 ICP光譜儀高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
高速面陣 CCD 采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。
功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。
技術(shù)參數(shù)
Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能
檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L)
長(zhǎng)期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)
光源:固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz
輸出功率:500W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1%
儀器規(guī)格:尺寸:寬 x 深 x 高(2650px x 1675px x 1875px) 重 量:約 180kg
光學(xué)系統(tǒng):分析譜線范圍:165-950nm
分 辨 率: 0.007nm@200nm 光室恒溫:38℃ ±0.1℃
CCD 像素:1024x 1024;單像素面積:24μm x 24μm
實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境:相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.995%
排 風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時(shí)
電 源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA
儀器特點(diǎn)
分光系統(tǒng)
Plasma 3000 ICP光譜儀采用徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì),適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用CaF2棱鏡,提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù),縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開(kāi)機(jī)即可測(cè)量。 包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)漂移。
光源
固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,效率高,匹配速度快,鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試,均能獲得優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。 垂直炬管的設(shè)計(jì),具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù),最大程度地降低自吸效應(yīng)和電離干擾,從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景,保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,待機(jī)時(shí)降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使用成本。
簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,精確的位置重現(xiàn)。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線,保障通訊高效可靠。
進(jìn)樣系統(tǒng)
簡(jiǎn)潔的炬管安裝設(shè)計(jì),自動(dòng)定位炬管位置,精確的位置重現(xiàn)。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸(HF) 等樣品的測(cè)試。
使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。
檢測(cè)器
大面積背照式CCD檢測(cè)器,全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取,從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有大靶面尺寸,百萬(wàn)級(jí)像素,單像素面積24μm X 24μm,三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。
軟件系統(tǒng)
人性化的界面設(shè)計(jì),流暢易懂,簡(jiǎn)便易用,針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無(wú)須復(fù)雜的方法開(kāi)發(fā), 即可快速開(kāi)展分析操作。
豐富的譜線庫(kù),智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置,直觀的測(cè)試結(jié)果顯示。
安全防護(hù)
全方位電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門(mén)保護(hù),避免用戶誤操作可能帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗
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0532-85891949
0532-85879696
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